调焦调平系统作为光刻机核心分系统，是光刻机实现高质量曝光的关键。报告分析了不同工艺节点对光刻机对焦控制的精度需求，介绍了对焦控制的流程和数学模型，重点介绍了主流光刻机调焦调平传感技术、发展历程与发展趋势。
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